0.5μm 40V/40V HVCMOS技術是FMIC自主開發的非外延高壓CMOS通用工藝平臺。與同領域典型的1.0um 40V HVCMOS工藝平臺相比，生產周期和成本相近的情況下，集成度可明顯提升；與同行業類似的0.5um HVCMOS平臺相比，生產周期和生產成本均可減少約20%該平臺產品可以廣泛的應用于電源管理、LED驅動等消費電子領域。
1) 工藝特性
? ? 常規5V 低壓MOS兼容行業標準
? ? 19層光罩，19個光刻層（其中包含3個可選層），采用非外延工藝
? ? 四阱工藝： 深隔離N阱，高壓N阱，N阱，P阱
? ? 采用局部氧化和PN結隔離
? ? 雙柵氧，125A和1000A
? ? SOG平坦化，鎢塞工藝
? ? 工作電壓： Vgs&Vds 5-40V
2) 典型應用
? ? AC/DC 轉換電路
? ? DC/DC 轉換電路
? ? 驅動電路
? ? 高壓模數混合電路